台大電子束實驗室

E-Beam 實驗室提供兩種主要的設備，用於精密加工和檢測的先進技術，分別是電子束曝光機（E-Beam Lithography）和聚焦離子束（FIB, Focused Ion Beam）設備。

1. 電子束曝光機 (E-Beam Lithography)：利用高能量電子束來進行極高精度的圖案製作，本實驗室機台能達到的最小線寬為8nm。透過調控電子束的行進路徑和強度，EBeam 實驗室的電子束曝光機能夠在基板上精確雕刻複雜的微小圖案。

2. 聚焦離子束機台 (FIB)：FIB 可以用於精密切割和沉積材料，還能作為高分辨率的檢測工具。這種技術通過發射聚焦的離子束，能夠進行局部的表面修整、樣品截面分析、甚至對材料進行奈米級的修改。